高真空薄膜蒸留

▶ FD・MD

高真空薄膜蒸留(短工程蒸留)

※厳密には中真空域ではありますが、通常の蒸留と比較してより真空であるため高真空であるという意味で用いております。

バッチ式の単蒸留で困難な高沸点物質の蒸留が出来ることが特徴です。

八代にはワイプタイプ(FD)と遠心タイプ(MD)の蒸留機があり、どちらも原理は同じです。 ワイプタイプはワイパーにて薄膜を形成、遠心タイプは遠心力で薄膜を形成します。

流下膜式薄膜蒸留装置(ワイプタイプ)

Model:FEW 36-75 (株式会社神鋼環境ソリューション製)

Vacuum:10-2Torr(1.33Pa)

Temp:270℃ Max.

Feeding Speed:700kg/h

概ね分子量が~400程度の物質を蒸留する事が出来ます。

遠心式分子蒸留装置

Model:MS-1000 (日本車両製造株式会社製)

Vacuum:10-3Torr(0.13Pa)

Temp:300℃ Max.

Feeding Speed:100kg/h

概ね分子量が~700程度の物質を蒸留する事が出来ます。

遠心式分子蒸留装置(少量スケール)

Model:MS-380 (日本車両製造株式会社製)

Vacuum:10-3Torr(0.13Pa)

Temp:300℃ Max.

Feeding Speed:5kg/h

20リットル程度の試作に対応しております。

〈 薄膜蒸留装置の特徴 〉

◆滞留時間の短い連続式の蒸留装置です。

熱がかかるのは薄膜状になっている間だけ。

◆薄膜状で蒸留するため分子間相互作用を受けにくい蒸留です。

液深の影響がほぼありません。

◆限られた空間が真空になっており、留出物はすぐに凝集するため~0.1Paでの運用が可能!

高真空になるのは蒸留機の中だけ、且つ、コンデンサは蒸発面の直近にあります。

◆連続式であるため、大量処理が可能になります。

連続的な供給、抜き出しが可能です。

◆少量では高価な蒸留でも大型薄膜蒸留であれば存分にスケールメリットを出せます。

7.4㎡の蒸留機であれば1日当たり約10トンの処理が可能!コストパフォーマンスに優れた製造方法です。

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流下膜式薄膜蒸留装置(ラボスケール)

Model:ii-3(株式会社神鋼環境ソリューション製)

Vacuuml:10-3Torr(0.13Pa)

Temp:270℃ Max.

Feeding Speed:0.2kg/h

300g~1kg程度の試作に対応しております。